Les conditionneurs Diamond Disc 3M™sont des conditionneurs de pad de planarisation chimico-mécanique (CMP) haute technologie qui offrent des performances fiables pour les applications critiques de semi-conducteurs CMP.
Pour les procédés sensibles aux métaux, les revêtements pour conditionneurs de pad CMP 3M™ peuvent être appliqués en usine sur les conditionneurs de pad Diamond Disc 3M™. Ces revêtements ultrafins sont utilisés dans les procédés à nœuds avancés ou matures sensibles aux métaux, ou avec des slurries très agressifs couramment utilisés dans les procédés au tungstène ou au carbure de silicium. Ils nécessitent peu de modifications du procédé et permettent de réduire jusqu’à 99 % la contamination métallique, tout en préservant la planéité, l’agressivité et l’efficacité du polissage.
Applications | Nœud avancé (mémoire et logique), Fabrication de plaquettes, Fabrication de disques durs, CMP |
Marques | 3M |
Matériau abrasif | Alliage à base de nickel avec motifs en losange |
Type de produit | Conditionneur de pad diamanté |
Dépliants
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